VNX55-EX 大流量膜堆采用成熟可靠的 IONPURE 连续电去离子（CEDI）技术生产高纯水。专门针对微电子行业所需的超纯水而优化设计。
每个 VNX55-EX 膜堆的名义产水流量为 12.5m3/h ( 55gpm）。通过在系统中并联多个 VNX55-EX 膜堆可以使单套系统出力达到甚至超过 228m3/h ( 1000gpm）。
● 保证产水电阻率达到 18MΩ.cm，为微电子和超纯水系统优化设计
● 硅和硼的去除率 ≥ 99%
● 钠离子和氯离子的去除率 ≥ 99.9%
● 回收率 95-97.5% 达到高节水和循环使用
● 不需要使用酸／碱、中和系统或树脂罐
● 运行费用远低于传统离子交换
● Through-port 垫片密封，无泄漏
● 大流量膜堆降低了系统成本，简化了机架设计
● 膜堆附带有连接件
● 膜堆上配有接线盒
● 可以提供 50mm 对焊聚丙烯（PP）连接件及图纸
